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Minitab R16 新功能-DOE新添加的功能

偶比较关心DOE是否有改善,能与JMP一比
创建因子设计上多了一个两水平裂区设计,裂区设计(Split plot design)在DOE中属于较难的部分,Minitab R16 开始帮我们设计与分析可以节省大幅时间,喜欢裂区设计的人不能不升级

响应面设计、混料设计、田口等3个设计模组与R15一致,并未添加新功能
R16在DOE菜单下容许一开始就可使用自定义设计的功能((R15一開始啟動呈灰色不能使用)

个人觉得在DOE上R16仍难以超越JMP 8
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logue (威望:1) (江苏 苏州) 电子制造 工程师

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真是好,升级了就是能够更强大了

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