SPC制定控制图控制界限时，数据的滞后性如何解决

SPC技术必须先收集一定时问段的数据，才能确定相应的控制界限。这个往往是滞后的控制。比如我们需要对光刻的栅极关键尺寸大小进行控制．以传统的sPc的做法要先收集至少30个批次的硅片样品的关键尺寸火小，计算样本的标准差，然后以三倍的标准差为控制界限作图，以此判断工艺过程是否稳定。但随着硅片批次的增加，可参与计算的样本造成了控制界限的变化，那么就会有一个很尴尬的现象出现，就是以原先控制界限作为判断标准，整个工艺参数是处于稳定状态，所以相关人员不会对此进行特别处理；但是以新的控制界限来看，已经超出稳定状态，请问该如何处理呢
请问这种情况该如何处理呢？恳请各位大侠帮忙，谢谢！