新手部分因子实验设计求助(关于电镀)!
各位朋友:大家好!
我刚接触DOE,有一些问题想向大家请教!
我想用部分因子实验设计来衡量镀液成分和电镀参数对镀层成分的影响,并判断因素的主次和交互作用,然后通过爬破实验找到robust condition.在此基础上进行响应曲面设计,最后找到控制镀层成分的方法.
前期实验已经通过单因素找出了影响镀层成分的5个单因素,现在想做2(5-1)的部分因子实验, 选取影响镀层成分的5个因素为实验设计的因素.现在有几个问题想请教大家:
1 因子的水平应该怎么确定, 目前的打算是根据单因素实验结果, 选取影响镀层成分显著的区间的端点.举例:影响镀层成分显著的电流密度区间为10~30mA/cm2,因子水平low对应10mA/cm2,high对应30mA/cm2.请问,这种方法是否可取?
2 实验设计用不用加中心点?加与不加的区别?加的话中心点如何选择?
我是在实验室下进行
多谢!
我刚接触DOE,有一些问题想向大家请教!
我想用部分因子实验设计来衡量镀液成分和电镀参数对镀层成分的影响,并判断因素的主次和交互作用,然后通过爬破实验找到robust condition.在此基础上进行响应曲面设计,最后找到控制镀层成分的方法.
前期实验已经通过单因素找出了影响镀层成分的5个单因素,现在想做2(5-1)的部分因子实验, 选取影响镀层成分的5个因素为实验设计的因素.现在有几个问题想请教大家:
1 因子的水平应该怎么确定, 目前的打算是根据单因素实验结果, 选取影响镀层成分显著的区间的端点.举例:影响镀层成分显著的电流密度区间为10~30mA/cm2,因子水平low对应10mA/cm2,high对应30mA/cm2.请问,这种方法是否可取?
2 实验设计用不用加中心点?加与不加的区别?加的话中心点如何选择?
我是在实验室下进行
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惊鸿照影 (威望:0) (上海 ) 电子制造 工程师
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