可人工干预的“随机过程” 的SPC控制方法,赶快看哟。
这里列举了两种近似的加工过程的控制难点,敬请有力出力,有idea出idea:
由于蚀刻速率的波动并且不可预测, 并且测量约占Ar离子蚀刻一批的时间, 所以目前采用如下办法确定蚀刻时间:
批次1(蚀刻时间t1) ==>批次2(蚀刻时间t2) ==>批次3(蚀刻时间3) ==>批次4(蚀刻时间t4)
此处 t4 = (t1+t2)/2 (蚀刻深度要求相同时)
有文献提到EWMA图, 我尝试过用于实际控制,但没有成功。目前仍然采用传统的
休哈特控制图。即通过人为干预的办法“制造”随机过程, 所以只能采用两套系统:一套计算每个批次需要
的蚀刻时间,一套表现最后的实际结果(SPC)
针对这种请况, 不知诸位有什么好的建议?
2.研磨工序
以上抽样是全检, 本工序是抽检,即12份物料抽检一份(全检实际上不可能),由于磨削速率会随着使用时间的增加而下降,所以需要随着时间的增加而延长研磨时间。
我们在做SPC(I-MR图)时,只能控制经时间调整后的研磨结果, 而研磨时间的确定需要有一个时间vs研磨率的表格,我们用另外的程序计算该份物料的时间,如果结果不合另外(非SPC)指定的要求,要求返工(再加时间研磨),这样得到的结果才会进入SPC。
我觉得这样做的结果是SPC将会变得边缘化,但无法从SPC的理论中得到解决。期待听到诸位的建议。(以前有贴子讨论过具有变差趋势的控制图情形,那里的参数是不可调整的,而这里可以改变时间得到近似随机的过程)
- []真空蚀刻工序: [/]
由于蚀刻速率的波动并且不可预测, 并且测量约占Ar离子蚀刻一批的时间, 所以目前采用如下办法确定蚀刻时间:
批次1(蚀刻时间t1) ==>批次2(蚀刻时间t2) ==>批次3(蚀刻时间3) ==>批次4(蚀刻时间t4)
此处 t4 = (t1+t2)/2 (蚀刻深度要求相同时)
有文献提到EWMA图, 我尝试过用于实际控制,但没有成功。目前仍然采用传统的
休哈特控制图。即通过人为干预的办法“制造”随机过程, 所以只能采用两套系统:一套计算每个批次需要
的蚀刻时间,一套表现最后的实际结果(SPC)
针对这种请况, 不知诸位有什么好的建议?
2.研磨工序
以上抽样是全检, 本工序是抽检,即12份物料抽检一份(全检实际上不可能),由于磨削速率会随着使用时间的增加而下降,所以需要随着时间的增加而延长研磨时间。
我们在做SPC(I-MR图)时,只能控制经时间调整后的研磨结果, 而研磨时间的确定需要有一个时间vs研磨率的表格,我们用另外的程序计算该份物料的时间,如果结果不合另外(非SPC)指定的要求,要求返工(再加时间研磨),这样得到的结果才会进入SPC。
我觉得这样做的结果是SPC将会变得边缘化,但无法从SPC的理论中得到解决。期待听到诸位的建议。(以前有贴子讨论过具有变差趋势的控制图情形,那里的参数是不可调整的,而这里可以改变时间得到近似随机的过程)
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tiaoti11 (威望:0) (广东 东莞) 在校学生 工程师
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我们的最终结果是要接近目标蚀刻深度.
由于速率波动, 所以需要不断的调整时间.